干燥箱/烘箱產品及廠家
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達到真空狀態后開始涂布工藝，涂布完成后烘箱內部充入n2，達到常壓后方可開門。
更新時間:2025-04-22
hmds涂膠烤箱，mes接口hmds涂布機的主要作用是對晶圓做表面處理，以增加光阻在晶圓表面的附著力。當晶圓送到黃光區時，表面可能有含水層，高溫烘烤后去除水氣，同時經過hmds制程改變晶圓表面從極性到非極性，將晶圓表面的表面能被調整到與光阻表面相當的程度，從而使光阻可以很好的附著在晶圓表面。
更新時間:2025-04-22
為了獲得良好的聚酰亞胺性能，非常好的溫度均勻性，低氧含量和低顆粒數是非常重要的。無塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹脂（pi）烤箱腔內的氣體保持相當干凈（100級），良好的溫度均勻性。通過氮氣吹掃可將氧氣含量降低至20ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優異工藝結果。
更新時間:2025-04-22
硅片充氮烘箱，半導體充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制p.i.d調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可滿足電子電器、醫藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口
更新時間:2025-04-22
電熱鼓風烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-04-22
電子無塵烤箱，電子潔凈烘箱應用于晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅芯片。在硅芯片上可加工制作成各種電路組件結構，而成為有特定電性功能之ic產品。一般是芯片電路設計-晶圓的制造-晶圓的測試-晶圓的切割研磨-芯片的封裝-成品芯片的測試。在整個工藝中晶圓烘烤工藝也很重要，且需要多次烘烤。
更新時間:2025-04-22
芯片高溫高濕實驗機，晶圓恒溫恒濕老化箱適用于電工、電子、儀器儀表及其它產品、零部件及材料在高低溫交變濕熱環境下貯存、運輸、使用時的適應性試驗；
更新時間:2025-04-22
碳化硅hmds烘箱，sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-04-22
無塵烘箱，無塵固化烤箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過程中堅膜工藝。也用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
更新時間:2025-04-22
智能型hmds蒸鍍機臺是一種具有預處理性能更好，處理更加均勻，效率高，更加節省藥液的智能型烘箱。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業。
更新時間:2025-04-22
hmds預處理系統(js-hmds90 )將hmds氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-04-22
pi固化高溫烘箱，聚酰亞胺厭氧烤箱用于半導體/三代半導體/新材料/新能源等行業。bcb、pi、cpi、pbo膠固化，lcp新材料、鋰電池等產品熱處理。
更新時間:2025-04-22
無塵烘箱，class 100潔凈烘箱，無塵高溫烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、led、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-04-22
六箱體氮氣烘箱，多倉式潔凈烘箱于光刻膠固化、堅膜烘烤、治具干燥、芯片封裝、碳化硅襯底生產、外延片烘烤、墨點烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能
更新時間:2025-04-22
真空熱風烘箱，高溫熱風真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時間:2025-04-22
智能型hmds真空系統（js-hmds90-ai）將hmds氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-04-22
secs/gem協議無塵烘箱，無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；設備可以使用tcp / ip（使用hsms標準，semi e37）或基于rs-232的協議與支持gem的主機進行通信通常這兩種協議都受支持。每臺設備都可以使用由gem指定的通用secs-ii消息進行監控和控制。
更新時間:2025-04-22
氮氣烤箱，充氮潔凈烤箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-04-22
精密烘箱，稀土永磁材料精密烘箱應用于稀土永磁材料及其制品的生產過程中干燥、老化等工藝。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動切斷加熱及報警更，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-04-22
高溫固化烤箱，百級無塵無氧烤箱主要應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求。應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
更新時間:2025-04-22
程控式氮氣潔凈烤箱，四箱充氮烘箱工作室內溫度由溫控儀自動控制，可設定定值運行、程序（曲線）運行自由切換，并有自動恒溫及時間控制，并附設有超溫自動停止加熱及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-04-22
烘箱，實驗室小型烘箱可用于各企業、檢測化驗室、科研院所等用于干燥、烘焙、熔臘、高溫滅菌等。它對各種材料、設備、電工電子產品、武器裝備等的適應性與可靠性試驗都是必不可少的。在航天、航空、船舶、兵器、電子、石化、郵電、通訊、汽車、醫療、高校等領域貢獻突出。
更新時間:2025-04-22
工業烘箱，工業無塵烘箱用于半導體制造中預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、ic封裝、治具烘烤、光刻膠固化等；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-04-22
石膏鑄模烤箱，石膏模具烘烤設備可滿足精鑄優質的鋅合金模具要求，廣泛應用于汽車輪胎、航天等工業的高品質鋁制品。我們的烘箱的產品，符合國際企業對產品質量和文檔記錄設定的標準。
更新時間:2025-04-22
精密無氧化烘箱，無氧烤箱在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-04-22
精密恒溫烤箱，氮氣保護烤箱適用于半導體、pcb線路板、電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、點陣、數碼管、led發光二極管、smd、大功率、貼片等固化 ，廣泛用于電子行業、工業、高校、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-04-22
堅膜無塵烤箱，半導體無塵烘箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過程中堅膜工藝。也用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
更新時間:2025-04-22
可編程led專用烤箱，高溫led光電烤箱廣泛用于點陣，數碼管，led發光二極管，smd，大功率，貼片等固化；led光電烤箱獨有的性質配置單門或多門，使用上更節能，更人性化
更新時間:2025-04-22
hmds黏附機 光刻膠hmds烘箱 hmds疏水處理烘箱應用多晶硅，石英，太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、sic(碳化硅)、磷化銦、gan(氮化鎵)、zno（氧化鋅）、gao（氧化鎵）、金剛石等第三代半導體材料。
更新時間:2025-04-22
n2潔凈烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-04-22
紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 uv固化真空烤箱主要應用于uv膠水、uv 油墨、uv光油、uv 油漆、uv 涂料、薄膜等 uv 光感材料的固化，3d打印固化，新型材料改性、高分子化學、半導體材料光固化，以及高等院校和科研機構的實驗室研究。
更新時間:2025-04-22
氮氣烘箱，四箱氮氣烤箱，不銹鋼充氮烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-04-22
硅片潔凈烘箱，半導體百級潔凈烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-04-22
聚酰亞胺pi無氧烘箱，氮氣亞胺化烘箱應用于精密電子元件、pi、cpi/pbo/lcp/bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求
更新時間:2025-04-22
pi 無塵烤箱，bcb固化烤箱是參照gb/t11158-1989，gb2423，2-1989干燥箱技術條件及國家相關標準研究制造，廣泛應用于電子液晶顯示，lcd,cmos,ic，醫藥實驗室等生產及科研部門
更新時間:2025-04-22
hmds預處理系統(js-hmds90 )將hmds氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-04-22
工業烤箱，半導體干燥烘箱作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及蜂鳴電路，控制可靠，使用安全。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-04-22
硅片百級潔凈烤箱，高溫潔凈烘箱采用單面水平由后向前送風熱風循環系統，風源由循環馬達運轉帶動風輪經電熱器，將熱風由風道送至烤箱內部，且將使用后空氣吸入風道成為風源再度循環加熱，省電節能溫度均勻性好，過濾效率99.99%，class 100；
更新時間:2025-04-22
hmds增粘劑烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布，涂膠工藝的配置機臺。該設備結合了有效的真空烘烤和蒸汽氣相涂布應用方法。在使用同一腔室過程的過程，為脫水和蒸汽灌注創造了一個加熱的真空環境，大大降低了晶片再水化或污染的風險。同時，提高了安全性，具有更好的安全保障。
更新時間:2025-04-22
非標無塵無氧烘箱，黃光區潔凈烤箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
更新時間:2025-04-22
潔凈無氧烘箱，氮氣無氧 烘箱聚酰亞胺作為鈍化層和緩沖保護層在微電子工業上應用非常廣泛。pi 涂層可有效地阻滯電子遷移、防止腐蝕。pi 層保護的元器件具有很低的漏電流，可增加器件的機械性能，防止化學腐蝕，也可有效地增加元器件的抗潮濕能力。pi 薄膜具有緩沖功能，可有效地降低由于熱應力引起的電路崩裂斷路，減少元器件在后續的加工、封裝和后處理過程中的損傷；
更新時間:2025-04-22
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達到真空狀態后開始涂布工藝，涂布完成后烘箱內部充入n2，達到常壓后方可開門。
更新時間:2025-04-22
hmds涂布機，hmds涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， hmds 涂布的原理，最常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（hmds）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的，而是hmds 改變了 sio2 的界面結構，從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。
更新時間:2025-04-22
晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱 潔凈度100級的潔凈熱處理hepa過濾器與前出風型水平層流循環方式實現并保證箱內的溫度分布的均勻性與100級潔凈度。最小限度控制風速距離。
更新時間:2025-04-22
hmds烘箱、hmds預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。
更新時間:2025-04-22
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