干燥箱/烘箱產品及廠家
硅片充氮烘箱，半導體充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制p.i.d調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可滿足電子電器、醫藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口
更新時間:2025-04-30
芯片高溫燒結箱，500℃高溫烤箱廣泛應用于電子、電機、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結
更新時間:2025-04-30
氮氣真空熱風烘箱，高溫熱風真空烤箱可達低氧濃度，厭氧烘烤、低真空熱處理烘烤。適用于bcb固化、pi聚酰亞胺固化、lcp纖維熱處理、光刻膠固化。可用于半導體、新材料、電子產品、醫療衛生等行業，適用于工廠、高等院校、科研等場所。
更新時間:2025-04-30
hmds黏附機 光刻膠hmds烘箱 hmds疏水處理烘箱應用多晶硅，石英，太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、sic(碳化硅)、磷化銦、gan(氮化鎵)、zno（氧化鋅）、gao（氧化鎵）、金剛石等第三代半導體材料。
更新時間:2025-04-30
晶圓百級潔凈烤箱，可編程潔凈烘箱一種采用單面水平由后向前送風熱風循環系統，風源由循環馬達運轉帶動風輪經電熱器，將熱風由風道送至烤箱內部，且將使用后空氣吸入風道成為風源再度循環加熱，省電節能溫度均勻性好，過濾效率99.99%，class 100的潔凈烘箱
更新時間:2025-04-30
芯片烘箱，芯片固化烤箱是指封裝環氧的固化，一般環氧固化條件在135℃，1小時。模壓封裝一般在150℃，4分鐘。后固化是為了讓環氧充分固化，同時對led進行熱老化。后固化對于提高環氧與支架(pcb)的粘接強度非常重要，一般條件為120℃，4小時。無氧化烘箱在工業中的用途：芯片固化，led芯片燒結，ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-04-30
真空無氧烤箱，無氧化真空烘箱兼容性：2寸-12寸/碎片兼容。低氧濃度：可達20ppm氧氣下實現真空固化。能耗低，真空狀態固化，節約了80%n₂量。無污染，腔體內部所有材料均為316l醫用不銹鋼，無任何顆粒產生。
更新時間:2025-04-30
百潔凈烤箱也稱作無塵烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、工裝夾具烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-04-30
充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制p.i.d調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可滿足電子電器、醫藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口。
更新時間:2025-04-30
氮氣烘箱，自動充氮無氧化烤箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制p.i.d調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。
更新時間:2025-04-30
程控式氮氣潔凈烤箱，四箱充氮烘箱工作室內溫度由溫控儀自動控制，可設定定值運行、程序（曲線）運行自由切換，并有自動恒溫及時間控制，并附設有超溫自動停止加熱及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-04-30
hmds蒸鍍真空烤箱，芯片hmds蒸鍍烤箱消除芯片表面的微量水份，防止空氣中的水汽再次吸附于晶面，增加光阻劑(尤其是正光阻)對于晶面的附著能力,進而減少在而后之顯影過程中產生光阻掀起,或是在蝕刻時產了”undercutting”的現象。
更新時間:2025-04-30
無氧烘箱，光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化，光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，
更新時間:2025-04-30
pi真空固化烤箱，水冷卻pi固化爐用于光刻膠bcb，聚酰亞胺pi固化，晶圓干燥烘烤等工藝，主要用于集成電路、化合物半導體、mems微機電、tft/lcd等半導體相關行業。
更新時間:2025-04-30
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達到真空狀態后開始涂布工藝，涂布完成后烘箱內部充入n2，達到常壓后方可開門。
更新時間:2025-04-30
hmds增粘劑烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布，涂膠工藝的配置機臺。該設備結合了有效的真空烘烤和蒸汽氣相涂布應用方法。在使用同一腔室過程的過程，為脫水和蒸汽灌注創造了一個加熱的真空環境，大大降低了晶片再水化或污染的風險。同時，提高了安全性，具有更好的安全保障。
更新時間:2025-04-30
無塵烤箱配備hepa過濾器，以保持爐腔無顆粒。 hepa過濾器（高效微粒捕獲）現在是電子和平板顯示器潔凈室組裝的主要過濾系統，或任何需要大程度減少或去除亞微米微粒的應用。 hepa過濾器具有隨機定位的微玻璃纖維的深床，其中與平均纖維直徑和自由路徑橫截面的有效孔相比，總床深度（過濾器的厚度）非常大。
更新時間:2025-04-30
無氧烘箱，防氧化烘箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，形成高溫、低氧（無氧）、潔凈環境，特別適合半導體制造、cob封裝、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求，廣泛應用于電子產品、五金制品、醫療衛生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等行業。
更新時間:2025-04-30
充氮真空無氧烘箱的原理是一種利用真空厭氧固化的設備,它可以在無氧的環境下對一些特殊的膠水進行快速固化,適用于半導體芯片、電子元器件、醫療器械等域。
更新時間:2025-04-30
無氧烘箱，20ppm無氧烘箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，形成高溫、低氧（無氧）、潔凈環境，特別適合半導體制造、cob封裝、ic封裝、石英玻璃、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求.
更新時間:2025-04-30
為了獲得良好的聚酰亞胺性能，非常好的溫度均勻性，低氧含量和低顆粒數是非常重要的。無塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹脂（pi）烤箱腔內的氣體保持相當干凈（100級），良好的溫度均勻性。通過氮氣吹掃可將氧氣含量降低至20ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優異工藝結果。
更新時間:2025-04-30
潔凈充氮烘箱，無塵室充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。充氮烤箱可滿足電子電器、醫藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口。
更新時間:2025-04-30
馬弗爐，高溫電阻爐是分析實驗室樣品干法處理，冶金實驗室做熔融實驗，熱處理部門做退火、淬火等實驗，以及其他需要高溫的場合需要的加熱輔助設備，應用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產的產品，該產品將爐體與控制部分做了整合，大的降低了所占空間面積。
更新時間:2025-04-30
智能型hmds蒸鍍機臺是一種具有預處理性能更好，處理更加均勻，效率高，更加節省藥液的智能型烘箱。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業。
更新時間:2025-04-30
非標充氮潔凈烘箱，充氮烤箱定做是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內持續充氮，使烘箱工作室內處于潔凈狀態。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-04-30
無氧烘箱，無氧烤箱氧濃度儀應用于精密電子元件、pi、bcb、lcp固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環境，特別適合半導體制造、cob封裝、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求
更新時間:2025-04-30
半導體烘箱，n2半 導體烤箱適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、ic封裝、醫藥、實驗室等生產及科研部門。也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗
更新時間:2025-04-30
n2潔凈烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-04-30
馬弗爐，高溫電阻爐是分析實驗室樣品干法處理，冶金實驗室做熔融實驗，熱處理部門做退火、淬火等實驗，以及其他需要高溫的場合需要的加熱輔助設備，應用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產的產品，該產品將爐體與控制部分做了整合，大的降低了所占空間面積。
更新時間:2025-04-30
secs/gem通訊無塵烘箱,無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-04-30
硅箱片無氧烘，半導體厭氧烤箱，在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-04-30
流水線式干燥烘箱，非標隧道烘箱定做是連續式烘干設備，可持續不間斷地烘烤，提高產品生產效率，應用于輕工，電子，食品，化工，木業，機械等行業。
更新時間:2025-04-30
紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 uv固化真空烤箱主要應用于uv膠水、uv 油墨、uv光油、uv 油漆、uv 涂料、薄膜等 uv 光感材料的固化，3d打印固化，新型材料改性、高分子化學、半導體材料光固化，以及高等院校和科研機構的實驗室研究。
更新時間:2025-04-30
ito無氧化烤箱，防氧化退火爐隨著退火溫度的升高，ito薄膜的微觀結構得到改善，表面形貌均一穩定，但當退火溫度超過某一界限時，ito顆粒大小不一，形狀各異，小顆粒團聚現象嚴重，薄膜的表面形貌遭到破壞。
更新時間:2025-04-30
高溫烘箱定做，非標軌道烘箱性能特點:◆采用智能溫控儀表，操作方便；◆采用推車加導軌進出方式，方便超重物品進出烘箱；◆配有聲、光超溫報警及保護裝置；
更新時間:2025-04-30
晶圓無氧烘箱，藍寶石厭氧烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內持續充氮，使烘箱工作室內處于潔凈狀態。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全
更新時間:2025-04-30
hmds真空鍍膜機，光刻hmds鍍膜烤箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-04-30
無氧化烤箱，高溫無氧固化爐利用充氮氣提供無氧化烘烤空間， 確保產品不氧化。適用于ic封裝、晶圓烘烤、pi固化、bcb膠固化、ito模具退火、鍍膜制程等半導體行業，電子行業及各種產業應用。
更新時間:2025-04-30
潔凈烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-04-30
智能型無塵無氧烘箱，高溫無塵無氧化烘箱又稱為pi固化烘箱，厭氧烘箱，高溫無氧烘箱，用于pi、bcb膠高溫固化、lcp熱處理烘烤、光刻膠固化等電子，半導體、新材料行業。
更新時間:2025-04-30
氮氣烘箱，四箱氮氣烤箱，不銹鋼充氮烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-04-30
百級無塵烤箱，100級潔凈烤箱用于ic可靠性試驗，ic封裝，光刻膠固化，電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-04-30
半導體百級潔凈烘箱，芯片百級烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-04-30
精密循環風烤箱，精密高溫烘箱適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫藥、實驗室等生產及科研部門。 也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗。
更新時間:2025-04-30
高溫真空無氧烤箱js-gyzf040,雋思無氧烘箱用于pi/bcb/lcp/pbo光刻膠固化、厭氧烘烤、mems生產、高溫退火等工藝，適用于半導體、電子、新材料等研發，生產。常用于科研單位，高校實驗室，工廠生產線等場所。
更新時間:2025-04-30
hmds烘箱 圖像反轉系統 六甲基二硅氮烷涂膠機使用hmds（六甲基二硅氮烷）對晶圓表面進行快速、均勻、經濟高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統還支持圖像反轉，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。
更新時間:2025-04-30
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