是當(dāng)前應(yīng)用廣的優(yōu)秀高溫超導(dǎo)單晶基片之一。無孿晶結(jié)構(gòu),物理、機(jī)械性能優(yōu)良。使用多種制膜技術(shù)(如磁濺射,脈沖激光沉積,激光分子束外延等)制作的多種高溫超導(dǎo)薄膜均可得到 tco≥90°k, jco≥106a/cm2等指。也是高溫超導(dǎo)結(jié)技術(shù)(使用雙晶基片或臺(tái)階狀基片)及基片臺(tái)階化(按特定角度斜切并處理)的首選單晶材料。
更新時(shí)間:2025-04-02